Gewerkschafts- und arbeitgebernahe Förderprogramme

Hans-Böckler-Stiftung und Studienwerk Klaus Murmann – Stiftung der Deutschen Wirtschaft

Die Hans-Böckler-Stiftung und das Studienwerk Klaus Murmann der Stiftung der Deutschen Wirtschaft sind gewerkschafts- und wirtschaftsnahe Förderprogramme. Beide sind vom Bundesministerium für Bildung und Forschung anerkannte Begabtenförderungswerke und erhalten ihre Mittel für die Stipendienvergabe von diesem. Die finanzielle Förderung ist bei beiden dieselbe. Sie ist leistungs- und elternabhängig und and das BAföG angelehnt – muss aber bei Erhalt nicht zurückgezahlt werden. Hinzu kommt für alle Stipendiatinnen und Stipendiaten die sogeannte Studienkostenpauschale ("Büchergeld"). Ferner gibt es noch Leistungen für die Kranken- und Pflegeversicherung, einen Familienzuschlag sowie eine Kinderbetreuungspauschale. Alle Leistungen werden monatlich ausgezahlt.

Grundstipendium:bis zu 744 €
Studienkostenpauschale:300 €
Krankenversicherung:bis zu 84 €
Pflegeversicherung:bis zu 25 €
Familienzuschlag:155 €
Kinderbetreuungspauschale:

140 €

Wenn Sie sich für ein Stipendium der Hans-Böckler-Stiftung oder des Studienwerk Klaus Murmann der Stiftung der Deutschen Wirtschaft interessieren, sollten Sie sich vorab Gedanken machen, ob Sie die Werte, Ziele und Positionen der jeweiligen Stiftung teilen. Auch das Ideelle Förderprogramm unterscheidet sich. Eine kurze Information und Kontaktmöglichkeiten finden Sie auf den Unterseiten.

Hinweis: Die Stiftungen nutzen entsprechend ihrer politischen Ausrichtung bei ihren Informationen unterschiedliche Gender-Schreibweisen, die hier zu Informationszwecken auf den Unterseiten übernommen wurden.

Bayerische EliteAkademie

Die Bayerische EliteAkademie ist eine Einrichtung der bayerischen Wirtschaft, die mit den bayerischen Universitäten und Hochschulen zusammenarbeitet. Sie unterstützt herausragende und leistungsbereite Studenten, die sich weiter qualifizieren und später im Berufsleben Führungsaufgaben übernehmen wollen. Mehr zur Bayerischen EliteAkademie.